講座題目：傳感器生產的薄膜工藝和設備制造 Thin Film Process and Equipment for MEMS Manufacturing

報 告 人：唐云俊

時 　 間：2019年10月30日(周三)9:00-11:00

地 　 點：中關村校區5號教學樓502-1

主辦單位：研究生院、材料學院

報名方式：登錄北京理工大學微信企業號---第二課堂---課程報名中選擇“【百家大講堂】第262期：傳感器生產的薄膜工藝和設備制造”

【主講人簡介】

  美國AVP科技公司總技術官，中科院物理所固體物理博士，為薄膜材料、半導體工藝和設備專家。曾為中科院物理所付研究員，UCSD研究科學家。也曾就職于西部數據公司，任高級研發工程師，負責寫磁頭薄膜沉積、刻蝕，以及器件的工藝合成。研發新材料、新工藝，并制定工藝制度，發現并解決器件工藝制備過程中各種問題。精通微納器件制造各種工藝流程、設備特性、研發和制造技術。在國際期刊發表50多篇學術論文，并有十多個中、美專利。曾為美國《Physical Review B》，《J. Appl. Phys.》及英國Institute of Physics 期刊雜志審稿人。
  唐博士具有長期的企業技術、企業戰略規劃實施和企業運營的豐富經驗。長期以來，負責各種~8英寸工業生產鍍膜機（PVD）、離子刻蝕機（IBE）、反應刻蝕機（RIE）、離子鍍膜機（IBD），以及in-line光伏電池制備鍍膜設備的技術研發、生產、銷售;同時負責各種薄膜材料工藝研發，包括，低損耗光學薄膜，光伏薄膜、超硬薄膜，極耐磨薄膜，耐高溫、高反射合金薄膜，防靜電薄膜等等，并研究其機械、光、電、磁等物理性能，及工業生產的安全性、可靠性、持續性、高產能、低消耗等生產要求，使之應用于工業生產。負責企業日常運營、管理。堅持為客戶服務的理念，與客戶緊密合作，了解客戶生產狀況，及時幫助客戶分析、解決生產中的各種問題；了解客戶新產品、新技術開發前景，及時制定研發、生產、銷售戰略，達到企業持續增長。

【講座信息】

  介紹MEMS生產過程中薄膜沉積和刻蝕的基本工藝，及相關PVD、IBE等設備設計生產的基本要求。圍繞薄膜沉積、刻蝕的基本要求，如工藝特點、薄膜粘著性、均勻度、結構、性能、顆粒、溫度、產能等，介紹半導體設備設計的一些思路和案例。